フォトテクニカ株式会社

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  • Pharos STW

    世界の革新的独創的レーザ・電子光学機器提供します。

  • Orpheus-F & Pharos G54 9483

    最先端レーザーによる各種材料サンプルのテスト加工に対応します。


  • 機器のメンテナンス・移設高度な技術サービス提供します。

  • mian_visual4_30th

    薄膜密着強度測定機受託測定および消耗品も提供します。

新製品NEWS 

◆ 空冷LD 励起一体型波長可変OPO システム Q-TUNE(QL 社製)                     シームレスレーザ&OPO, 高調波ユニットが高度に集積。
ターンキー操作で紫外から中赤外域までハンズフリー
チューニング可能。LIF ・フラッシュフォトリシス等に最適。                         ●admin@jntbz.tw,          210(SH)-410-2300nm,
ライン線幅<6cm , 10 Hz
●admin@jntbz.tw, 100Hz    

◆幅広い産業⽤途に使⽤可能なピコ・ナノ秒レーザ   (Grace Laser 社製)                ●ダイオード励起QCW ピコ秒UVレーザ
GENIUS:150mW/350mW@355nm
産業⽤⾼出⼒ピコ秒レーザ BLAZER :
10W〜50W@1064nm, 532/355nm
●⾼エネルギーピコ秒モードロックレーザ
BLAZER-P: 1〜200mJ@1064nm, ~10kHz
●⾼出⼒産業⽤ダイオード励起ナノ秒レーザ
GRAVER : 35W@1064nm, 30kHz〜150kHz               

4K 高解像度CMOS 超高速分光器
AvaSpec-ULS4096CL-EVO (Avantes社製)            5Gbps 通信&1Gbps 伝送、多メモリー保存、外部トリガー等実現したEVO と4096 CMOSディテクターにより高パフォーマンス更新。                            ・最短露光時間: 9μs            ・最小波長分解能>0.05nm
・高S/N 値: 335 : 1            ・高ダイナミックレンジ4000プラズマ計測/ LIBS / ラマン分光用途/産業用プロセスコントロール等に最適

  • レーザ発振器

  • レーザ計測・制御

  • レーザ保護メガネ

  • レンズ・光学部品

  • 分光器

    Mini-MKⅡ+background_227x142_2018

  • スペクトルイメージング

    HOME_multi-spectral-imaging_2016.08

  • 薄膜計測

  • その他取扱製品

    background+core-fiber-

 

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